圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備主要用于剝離過(guò)程，特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過(guò)底切側(cè)壁形態(tài)，可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側(cè)壁上形成連續(xù)薄膜，有助于獲得干凈的剝離光刻膠結(jié)構(gòu)。

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更新時(shí)間：2025-09-17
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圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備工藝原理：

光刻圖形反轉(zhuǎn)是一種特殊的工藝，用于制作?半導(dǎo)體器件。在曝光結(jié)束后，光刻膠中的圖像與想要得到的圖像是相反的，即曝光區(qū)域在顯影后會(huì)形成孔洞而不是島區(qū)。這種工藝主要用于制作孔洞結(jié)構(gòu)，通過(guò)改變曝光區(qū)域和非曝光區(qū)域的相對(duì)分解率來(lái)實(shí)現(xiàn)。

圖像翻轉(zhuǎn)烘箱，光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備的應(yīng)用：

光刻圖形反轉(zhuǎn)工藝主要用于剝離過(guò)程，特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過(guò)底切側(cè)壁形態(tài)，可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側(cè)壁上形成連續(xù)薄膜，有助于獲得干凈的剝離光刻膠結(jié)構(gòu)。

光刻圖形反轉(zhuǎn)設(shè)備的性能：

尺寸(可定制)	內(nèi)腔尺寸:450寬×450深×450高(mm)，外形尺寸:760×750×1500 (mm)
材質(zhì)	內(nèi)箱采用SUS304不銹鋼，外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板靜電噴塑
溫度范圍	RT+50-250℃
溫度分辨率	0.1℃
溫度波動(dòng)度	≤±1℃
操作模式	人機(jī)界面
升溫速率	≤5℃/min
氣體	2路供氣
真空度	0.1~100KPa
電源及總功率	AC220V±10% / 50HZ 總功率約2.8KW
溫度控制器	觸摸屏微電腦溫控器，可校準(zhǔn)溫度，PID 自整定等功能
擱板層數(shù)	不銹鋼托盤2層
真空泵	渦旋干泵
腔門密封圈	采用耐高溫硅橡膠密封圈，密封圈采用一體成型無(wú)縫加工

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